Ⅰ. 개요
오늘날 서구 학계(특히 사회과학 분야)에서는 질적방법이 점차 수용되고 있다. 이것은 사회의 복잡성이 하나의 관점으로 이해될 수 없음을 연구자들이 자각하게 되었다는 사실에 부분적으로 기인한다. 한국사회과학에서도 이러한 경향은 크게 눈에 띄는 것은 아니라고 하더라도, 양적방법
ML2 means the maskless lithography. It is necessary to refinement process. Described above, "double / mutiful patterning" in additional cost savings as an alternative to be appropriate. Nano devices with decreasing the size of the unilateral use light to produce a mask for the lithography process takes time and cost. Small production of nano scale patterning process is suitable, and the suitable
(4) Double patterning
The double patterning is divided into four parts, leading with wafer requirements and then two sets of lithographic requirements (Generic Pitch Splitting - Double Patterning Requirements Driven by MPU metal Half-Pitch and Generic Spacer Patterning Requirements - Driven by Flash). The lithography requirements are different for each process; the requirements for pitch splitti
Piezoelectric crystal, e.g. Quartz and PLZT (Pb, La,
Zr, TiOx) are well known for their sensitivity to
pressure on their crystal surfaces. In addition,
the oscillating frequency of a piezoelectrc crystal
decreases on adsorption of a foreign substance
onto its surface.
The variation of oscillating frequency is
proportional to the mass of foreign
molecules deposited on the crystal surf
1. 서론
나노 기술이란 ‘나노미터 크기의 물질들이 갖는 독특한 성질과 현상을 찾아내고 이러한 성질을 갖는 나노물질을 정렬시키고 조합하여 매우 유용한 성질의 소재, 디바이스 그리고 시스템을 생산하는 과학과 기술’을 말한다. Nano imprint lithography(이하 NIL)는 이러한 나노 기술을 이용하여 초미
, 입자 크기, 입자 모양 및 온도에 따라 기존 자기기록 미디어의 저장 밀도의 한계를 넘어 새로운 데이터 저장용 소자로의 적용이 가능할 것으로 판단된다. 또한, 이미 언급한 용도 이외에 최근에는 특수 물질을 분리하기 위하여 분자 날인 고분자 입자(molecularimprinted polymer microampere) 제조, 이온 응답
Medical Molecular Biology
*. Please answer the questions clear and in detail.
1. Please compare the structures of procaryotic and eucaryotic mRNA molecules.
2. Please explain the process of polyubiquitination.
3. Please classify the DNA-binding motifs.
4. Please explain the imprinting in the mouse.
5. Please explain how to make the monoclonal antibodies.
6. Please explain the common s
imprinting)의 오류로 인하여 역시 부계로부터 물려받은 염색체가 기능하지 못하는 경우라고 알려져 있다. 위와 같은 증상을 보이는 원인은 아직 완전히 밝혀지지는 않았으나 식욕, 수면, 성기능, 정서 등에 관련하며 대뇌에서 가장 중요한 구조 중 하나인 시상하부(hypothalamus)의 기능이상에 의한 것이라고
1. 서론
지난 30년간 리소그래피 기술은 반도체 소자의 발전과 더불어 광 투사 리소그래피(Optical Projection Lithography) 기술을 중심으로 지속적인 발전을 거듭하였다. 그리하여 지금 193 nm의 광 투사 리소그래피를 이용하여 100 nm 이하의 선 폭을 형성할 수 있는 수준에 이르렀다. 그러나 반도체 기술은 앞으
*리소그래피
집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한